<p>Verfahren zur Herstellung von Hexachlordisilan (Si2Cl6) dadurch gekennzeichnet, dass chloriertes Polysilan der empirischen Formel SiClx (x = 0,2–0,8) oxidativ mit Chlorgas gespalten wird.</p>
申请公布号
DE102009056438(B4)
申请公布日期
2013.05.16
申请号
DE20091056438
申请日期
2009.12.02
申请人
SPAWNT PRIVATE S.A.R.L.
发明人
AUNER, NORBERT, PROF. DR.;BAUCH, CHRISTIAN, DR.;HOLL, SVEN, DR.;DELTSCHEW, RUMEN, DR.;MOHSSENI, JAVAD, DR.;LIPPOLD, GERD, DR.;GEBEL, THORALF, DR.