| 摘要 |
Die Erfindung betrifft eine Anordnung zur Einspeisung von HF-Strom für drehbare Rohrkathoden (1) in einer Vakuumkammer (4) einer Plasma-Beschichtungsanlage, sowie einer Hochfrequenz-Stromquelle (14) und einer innerhalb der Rohrkathode (1) befindlichen und sich längs derselben ersteckenden Magnetanordnung (7) zur Erzeugung eines Magnetfeldes (6). Durch die Erfindung soll, eine Anordnung zur Einspeisung von HF-Strom für Rohrkathoden geschaffen werden, die eine verlustarme Einspeisung des HF-Stromes ermöglicht, so dass ein besonders homogener Sputterabtrag von der Rohrkathode gewährleistet wird. Erreicht wird das dadurch, dass die HF-Stromquelle (14) über eine kapazitive HF-Einspeisung (9) in Form eines Koppelkondensators (18) mit der Rohrkathode (1) innerhalb der Vakuumkammer (4) gekoppelt ist. Der Koppelkondensator (18) der HF-Einspeisung (9) besteht aus einem Teil der Oberfläche der Rohrkathode (1) und einer Metallplatte oder -folie (10), die die Rohrkathode (1) wenigstens teilweise in einem vorgegebenen Abstand umschließt. |
