摆动喷嘴单元以及具有摆动喷嘴单元的基板处理装置

摘要

本发明提供一种用于清洁基板的单晶片处理装置。该装置包括基板支撑构件，该基板支撑构件包括用来放置基板的旋转头；处理碗，该处理碗设置为环绕所述旋转头并且适于收集从基板散射出来的处理液；以及摆动喷嘴单元，该摆动喷嘴单元适于通过摇摆旋转将处理液喷射至放置在该旋转头上的基板，其中该摆动喷嘴单元包括喷嘴部分，该喷嘴部分具有喷嘴主体，该喷嘴主体由用于提供设置处理液供给管的内部路径的内部树脂管构成，金属管，该金属管设置为围绕所述内部树脂管，以及外部树脂管，该内部树脂管设置为围绕所述金属管；以及喷嘴驱动器，该喷嘴驱动器适于在θ轴方向上旋转该喷嘴部分并且在Z轴方向上上下移动该喷嘴部分。

主权项

一种摆动喷嘴单元，包括：喷嘴部分，包括具有杆状形式的喷嘴主体，提供了用于设置处理液供给管的内部路径，其中所述喷嘴主体包括：内部树脂管；金属管，设置为围绕所述内部树脂管；以及外部树脂管，设置为围绕所述金属管；所述喷嘴部分还包括：密封帽，所述密封帽包括位于所述密封帽中央的通孔，用来使处理液供给管通过，并且所述密封帽被安装在所述内部树脂管的一端和所述外部树脂管的一端，以使所述金属管的一端不暴露在外面，其中，密封帽的外径和外部树脂管的外径相等，密封帽的内径和内部树脂管的内径相等。