发明名称 | 用于光刻设备的掩模版库及其掩模版盒存取方法 | ||
摘要 | 本发明公开一种用于光刻设备的掩模版库及其掩模版盒存取方法,所述掩模版库的外形呈一圆柱体,所述圆柱体的其中一个端面与侧面的交汇处设置有若干版盒槽,所述版盒槽容纳掩模版盒并提供一掩模版盒存取装置存入或取出掩模版盒。 | ||
申请公布号 | CN103105728A | 申请公布日期 | 2013.05.15 |
申请号 | CN201110353733.X | 申请日期 | 2011.11.10 |
申请人 | 上海微电子装备有限公司 | 发明人 | 程吉水;单世宝;江旭初 |
分类号 | G03F1/66(2012.01)I | 主分类号 | G03F1/66(2012.01)I |
代理机构 | 北京连和连知识产权代理有限公司 11278 | 代理人 | 王光辉 |
主权项 | 一种用于光刻设备的掩模版库,其特征在于,所述掩模版库的外形呈一 圆柱体,所述圆柱体的其中一个端面与侧面的交汇处设置有若干版盒槽,所述版盒槽容纳掩模版盒并供一掩模版盒存取装置存入或取出掩模版盒。 | ||
地址 | 201203 上海市浦东新区张江高科技园区张东路1525号 |