真空处理装置

摘要

本发明在卸载室（16）内与基板（S）相向地设置限制从气体源供给的排出气体的流动的整流板（23），且与整流板（23）的表面相向地设置向卸载室（16）内导入排出气体的导入口（24）。

主权项

一种真空处理装置，所述真空处理装置具备：在真空状态下对基板进行处理的真空处理室；和用于将在该真空处理室处理了的基板向外部运出的卸载室，其特征在于，上述基板在该基板的外周部被支撑于基板保持器的状态下，从上述真空处理室向上述卸载室被运送，在上述卸载室内，限制从气体源供给的排出气体的流动的整流板被设置成与运送到上述卸载室内的基板的表面相向，并覆盖该基板，并且，与上述整流板的表面相向地设有将排出气体向该卸载室内导入的导入口。