发明名称 | 氮化物类半导体元件及其制造方法 | ||
摘要 | 本发明提供一种氮化物类半导体元件及其制造方法。氮化物类半导体发光元件(100)具备:以m面(12)作为表面的GaN类基板(10)、在GaN类基板(10)的m面(12)之上形成的半导体层叠构造(20)、和在半导体层叠构造(20)之上形成的电极(30)。电极(30)包括Mg层(32),Mg层(32)与半导体层叠构造(20)中的p型半导体区域的表面相接触。 | ||
申请公布号 | CN101971364B | 申请公布日期 | 2013.05.15 |
申请号 | CN200980101726.1 | 申请日期 | 2009.06.04 |
申请人 | 松下电器产业株式会社 | 发明人 | 横川俊哉;大屋满明;山田笃志;加藤亮 |
分类号 | H01L33/00(2006.01)I | 主分类号 | H01L33/00(2006.01)I |
代理机构 | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人 | 汪惠民 |
主权项 | 一种氮化物类半导体元件,具备:氮化物类半导体层叠构造,其具有表面为m面的p型半导体区域;和电极,其设置在所述p型半导体区域上,所述p型半导体区域由AlxInyGazN半导体形成,其中,x+y+z=1,x≥0,y≥0,z≥0,所述电极包括与所述p型半导体区域的所述表面相接触的Mg层,所述Mg层中的Ga浓度比所述Mg层中的氮浓度高,所述电极包括:所述Mg层;和在所述Mg层之上形成的金属层,所述金属层由从Pt、Mo以及Pd所构成的组中选择的至少1种金属形成。 | ||
地址 | 日本大阪府 |