| 摘要 |
Przedmiotem wynalazku jest urzadzenie do pomiaru wlasciwosci antystatycznych próbek wypuklych, w szczególnosci o okraglym ksztalcie, uzywanych miedzy innymi w oftalmice do wytwarzania soczewek optycznych. Urzadzenie to jest równiez odpowiednie do okreslania wlasciwosci antystatycznych róznych powlok uszlachetniajacych naniesionych na okragle podloza o wypuklym lub plaskowypuklym ksztalcie. Urzadzenie charakteryzuje sie tym, ze badana próbka (P) umieszczona jest pomiedzy przednia elektroda uziemiona (E1) i elektroda ekranujaca (E2), przy czym elektrody uziemiona (E1) i ekranujaca (E2) osadzone sa w bocznych sciankach uziemionej oslony (OU), ponadto w elektrodzie uziemionej (E1) wykonany jest otwór.
|
