半导体装置之制造方法及半导体制造设备

摘要

一种制造半导体装置的方法具有研磨一薄膜，及藉由执行把一研磨表面第一曝露于一具有蚀刻该研磨表面之至少一个部份区域之效果之酸性第一清洗流体，及在该第一曝露之后把该研磨表面第二曝露于一硷性第二清洗流体来清洗该研磨表面。