发明名称 浸润式微影装置及器件制造方法
摘要 本发明揭示一种微影装置,其包括:一液体供应系统,该液体供应系统经组态以将一浸润式液体供应于该微影装置之一投影系统之一下游光学元件与基板之间;及一控制系统,该控制系统经配置以驱动基板台,以便执行一加速度剖面,以将该基板台自一第一方向上之一第一速度加速至一第二方向上之一第二速度。该加速度剖面在时间方面不对称且经定尺寸,使得当根据该加速度剖面来加速该基板台时,一用以断裂该浸润式液体之一弯液面的力保持低于一用以维持该浸润式液体之该弯液面的力。
申请公布号 TWI396056 申请公布日期 2013.05.11
申请号 TW097148044 申请日期 2008.12.10
申请人 ASML荷兰公司 荷兰 发明人 马汀斯 汉德利克斯 安东尼斯 里恩德斯;史杰德 尼可拉斯 蓝伯特 东德;克利斯提恩 华格纳;罗吉尔 韩得瑞克 马格达雷那 寇堤
分类号 G03F7/20 主分类号 G03F7/20
代理机构 代理人 陈长文 台北市松山区敦化北路201号7楼
主权项
地址 荷兰