发明名称 整发化妆料
摘要 本发明系一种整发化妆料,其含有皮膜性高分子与糖及/或糖醇,其特征在于含有:(A)皮膜性高分子1~15质量%、(B)糖及/或糖醇0.5~30质量%、(C)含酯键结之蜡0.2~15质量%、(D)液体油分,且进而(E)(A)成分与(B)成分之含量的质量比为(B)/(A)=1/2~3、(F)(A)成分与(C)成分之含量的质量比为(C)/(A)=1/5~1、(G)(C)成分与(D)成分之含量的质量比为(D)/(C)=1/2~3/2。;本发明之目的在于提供一种具有高固定力同时亦充份兼具整理力之整发化妆料。提供一种毛发化妆料,其极为有用于作为追求以往之整发化妆料之缺点,并符合近年来消费者期待之头发造型用商品。
申请公布号 TWI395597 申请公布日期 2013.05.11
申请号 TW098137378 申请日期 2009.11.04
申请人 资生堂股份有限公司 日本 发明人 清水秀树
分类号 A61K8/92;A61K8/73;A61K8/34;A61Q5/04 主分类号 A61K8/92
代理机构 代理人 桂齐恒 台北市中山区长安东路2段112号9楼;阎启泰 台北市中山区长安东路2段112号9楼
主权项
地址 日本