发明名称 成像面测量方法、曝光方法、元件制造方法以及曝光装置
摘要 一种曝光装置,其主控制装置(50),是将光栅载物台(RST)移动至扫描方向,以照明光(IL)照明光栅(R)上之区域,该区域包括标记区域,该标记区域形成有所定的标记,透过投影光学系统(PL)形成至少1个标记的空间成像,该空间成像存在于前述标记区域内,并使用空间成像测量装置(59)测量此空间成像。主控制装置一面将光栅载物台移动至扫描方向,一面重复进行上述之空间成像的测量。而且,主控制装置,依据每一移动位置之前述各标记的空间成像测量结果,算出扫描成像面。此扫描成像面是由形成于光栅之图案像,以投影光学系统所形成。依据算出结果,主控制装置进行扫描曝光中之晶圆的聚焦.调平之控制。藉此,不必使用光栅(光罩)位置测量用感应器,就可以实现高准确地曝光。
申请公布号 TWI396225 申请公布日期 2013.05.11
申请号 TW094124465 申请日期 2005.07.20
申请人 尼康股份有限公司 日本 发明人 萩原恒幸
分类号 H01L21/027;G03F9/00;G03F7/20 主分类号 H01L21/027
代理机构 代理人 詹铭文 台北市中正区罗斯福路2段100号7楼之1;萧锡清 台北市中正区罗斯福路2段100号7楼之1
主权项
地址 日本