发明名称 抗光蚀组成物
摘要 本发明系提供一种抗光蚀组成物,其涂布均匀性优异,具有优越的抑制涂布后斑点之能力,可轻易地被使用在实际产业现场,并藉于大量生产时使用量的降低及大量生产时间的减少等效果,俾改变以使之成为良好的作业环境者。依本发明之抗光蚀组成物,其系包含有:(a)酚醛清漆树脂;(b)二叠氮系化合物;及(c)溶媒,系含有丙二醇甲基醚乙酸酯(propylene glycol methyl ether acetate;PGMEA)及三甲基丙烷二醇单异丁酸酯(2,2,4-trimethyl-1,3-penthanediolmono isobutylate;TMPMB)。
申请公布号 TWI396040 申请公布日期 2013.05.11
申请号 TW094121420 申请日期 2005.06.27
申请人 东进世美肯有限公司 南韩 发明人 姜勋;李承昱;全雨植;朴大然;金周赫;金柄郁
分类号 G03C1/60 主分类号 G03C1/60
代理机构 代理人 恽轶群 台北市松山区南京东路3段248号7楼;陈文郎 台北市松山区南京东路3段248号7楼
主权项
地址 南韩