发明名称 处理液供应单元、使用处理液供应单元的基板处理装置及方法
摘要 一化学液供应单元、一使用该单元的基板处理装置及方法被提供之。预湿喷嘴、光阻喷嘴及边缘液滴去除喷嘴设置于一单一个喷嘴臂上。因此,与喷嘴分别安装在各自的喷嘴臂的情况相比,设备安装的空间可被节省,使得设备安装的空间可较佳地被利用。
申请公布号 TWI395622 申请公布日期 2013.05.11
申请号 TW098132559 申请日期 2009.09.25
申请人 细美事有限公司 南韩 发明人 金大城;柳寅喆
分类号 B05C5/02;B05C9/00;G03F7/16;H01L21/027 主分类号 B05C5/02
代理机构 代理人 庄志强 台北市大安区敦化南路2段71号18楼;王云平 台北市大安区敦化南路2段71号18楼
主权项
地址 南韩