互连电迁移的测试结构

摘要

本发明提供了一种互连电迁移的测试结构，所述互连电迁移的测试结构包括：待测结构；引线结构，包括第一引线以及第二引线；n层自上至下依次层叠的导电结构，位于所述待测结构和所述引线结构的下层，每一层所述导电结构包括第一通孔结构、第一连接结构、第二通孔结构、第三通孔结构、第二连接结构以及第四通孔结构，其中，n为大于等于2的正整数；电介质，所述待测结构、第一引线、第二引线、每一层的第一通孔结构、第一连接结构、第二通孔结构、第三通孔结构、第二连接结构以及第四通孔结构通过所述电介质绝缘间隔。在本发明提供的互连电迁移的测试结构，能准确评估待测结构的电迁移，从而保证待测结构的电迁移分析的准确性。

主权项

一种互连电迁移的测试结构，其特征在于，包括：待测结构；引线结构，包括第一引线以及第二引线；n层自上至下依次层叠的导电结构，位于所述待测结构和所述引线结构的下层，每一层所述导电结构包括第一通孔结构、第一连接结构、第二通孔结构、第三通孔结构、第二连接结构以及第四通孔结构，其中，n为大于等于2的整数，所述引线结构和导电结构用于为所述待测结构提供电流；以及电介质，所述待测结构、第一引线、第二引线、每一层的第一通孔结构、第一连接结构、第二通孔结构、第三通孔结构、第二连接结构以及第四通孔结构通过所述电介质绝缘间隔。