| 发明名称 | 用于抑制微细结构体的图案倒塌的处理液和使用该处理液的微细结构体的制造方法 | ||
| 摘要 | 本发明提供一种用于抑制微细结构体的图案倒塌的处理液，其含有选自具有碳原子数12、碳原子数14或碳原子数16的烷基的咪唑鎓卤化物、具有碳原子数14或碳原子数16的烷基的吡啶鎓卤化物和具有碳原子数16或碳原子数18的烷基的卤化铵中的至少一种及水。另外，本发明还提供一种使用该处理液的由氧化硅形成的微细结构体的制造方法。 | ||
| 申请公布号 | CN103098180A | 申请公布日期 | 2013.05.08 |
| 申请号 | CN201180043424.0 | 申请日期 | 2011.07.14 |
| 申请人 | 三菱瓦斯化学株式会社 | 发明人 | 松永裕嗣;大户秀 |
| 分类号 | H01L21/304(2006.01)I;B81C1/00(2006.01)I;H01L21/3065(2006.01)I | 主分类号 | H01L21/304(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 | 代理人 | 刘新宇;李茂家 |
| 主权项 | 一种用于抑制微细结构体的图案倒塌的处理液，其是用于抑制由氧化硅形成的微细结构体的图案倒塌的处理液，所述处理液含有选自具有碳原子数12、碳原子数14或碳原子数16的烷基的咪唑鎓卤化物、具有碳原子数14或碳原子数16的烷基的吡啶鎓卤化物和具有碳原子数16或碳原子数18的烷基的卤化铵中的至少一种及水。 | ||
| 地址 | 日本东京都 | ||