玻璃基板的曝光对位方法

摘要

本发明公开一种玻璃基板的曝光对位方法，包含：将一基准片进行一基准片掩模工艺，利用一曝光机及一第一层光掩模板进行曝光；计算所述基准片的一第一内、外标记及一第二内、外标记的位置，并储存计算后的一数据，以作为曝光的对位基准；及对一玻璃基板进行一玻璃基板掩模工艺，利用所述曝光机及一玻璃基板光掩模板进行曝光，在所述玻璃基板上投影出：至少两层曝光区；及至少一拼接区，所述拼接区是根据所述数据进行对位曝光。通过将所述基准片于曝光时所形成的第一内、外标记及第二内、外标记进行数据的计算及储存，使所述玻璃基板曝光的拼接区能以所述数据作为对位基准，可确保所述玻璃基板曝光的图形对位精度，进而可避免所述玻璃基板的曝光图形偏移。

主权项

一种玻璃基板的曝光对位方法，其特征在于：所述玻璃基板的曝光对位方法包含︰(S1)将至少一基准片进行一基准片掩模工艺，利用一曝光机及一第一层光掩模板进行曝光，在所述基准片上投影出：一第一曝光区；一第二曝光区；及一模拟拼接区，连接于所述第一曝光区及第二曝光区之间，所述第一曝光区分别于两侧形成数个第一外标记及数个第一内标记，所述第一外标记位于所述第一曝光区外，所述第一内标记位于所述第二曝光区中，所述第二曝光区分别于两侧形成数个第二内标记及数个第二外标记，所述第二内标记位于所述第一曝光区中，所述第二外标记位于所述第二曝光区外；(S2)计算所述步骤(S1)中的第一内、外标记及第二内、外标记的位置，并储存计算后的一数据，以作为曝光的对位基准；及(S3)对一玻璃基板进行一玻璃基板掩模工艺，利用所述曝光机及一玻璃基板光掩模板进行曝光，在所述玻璃基板上投影出：至少两层曝光区；及至少一拼接区，连接于所述两曝光区之间，其中所述拼接区是根据步骤(S2)的所述数据进行对位曝光。