| 发明名称 | 一种阵列基板及其制造方法、显示装置 | ||
| 摘要 | 本发明实施例提供一种阵列基板及其制造方法、显示装置，涉及显示技术领域，可以改善显示装置的视角，提高显示装置的质量。阵列基板包括至少一个阵列结构，所述阵列结构包括逐行排列的第一像素单元、第二像素单元和第三像素单元；所述第一像素单元和所述第三像素单元具有单畴倾斜方向，所述第二像素单元具有多畴倾斜方向；所述第一像素单元的畴倾斜方向与所述第三像素单元的畴倾斜方向不同；所述第二像素单元靠近所述第一像素单元一侧的畴倾斜方向与所述第三像素单元的畴倾斜方向相同，其靠近所述第三像素单元一侧的畴倾斜方向与所述第一像素单元的畴倾斜方向相同。 | ||
| 申请公布号 | CN103091919A | 申请公布日期 | 2013.05.08 |
| 申请号 | CN201310028769.X | 申请日期 | 2013.01.25 |
| 申请人 | 北京京东方光电科技有限公司 | 发明人 | 袁洪亮;李伟;解会杰 |
| 分类号 | G02F1/1362(2006.01)I;G02F1/1343(2006.01)I;G02F1/1333(2006.01)I;H01L21/77(2006.01)I | 主分类号 | G02F1/1362(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京中博世达专利商标代理有限公司 11274 | 代理人 | 申健 |
| 主权项 | 一种阵列基板，包括至少一个阵列结构，其特征在于，所述阵列结构包括逐行排列的第一像素单元、第二像素单元和第三像素单元；所述第一像素单元和所述第三像素单元具有单畴倾斜方向，所述第二像素单元具有多畴倾斜方向；所述第一像素单元的畴倾斜方向与所述第三像素单元的畴倾斜方向不同；所述第二像素单元靠近所述第一像素单元一侧的畴倾斜方向与所述第三像素单元的畴倾斜方向相同，其靠近所述第三像素单元一侧的畴倾斜方向与所述第一像素单元的畴倾斜方向相同。 | ||
| 地址 | 100176 北京市大兴区经济技术开发区西环中路8号 | ||