| 发明名称 | 喷嘴单元、基板处理装置和基板处理方法 | ||
| 摘要 | 本发明提供了一种喷嘴单元、基板处理装置和基板处理方法，以节省光刻胶的消耗量。本发明的基板处理装置包括：板，支承基板；喷嘴单元，向被所述板支承的所述基板涂敷药液；驱动单元，使所述基板或所述喷嘴单元移动，以使置于所述板上的基板与所述喷嘴单元之间的相对位置改变；所述喷嘴单元包括：第一喷出部件，沿第一方向形成该第一喷出部件的横方向，该第一喷出部件向所述基板喷出第一药液；第二喷出部件，沿第一方向形成该第二喷出部件的横方向，该第一喷出部件向所述基板喷出第二药液。 | ||
| 申请公布号 | CN103084290A | 申请公布日期 | 2013.05.08 |
| 申请号 | CN201210418788.9 | 申请日期 | 2012.10.26 |
| 申请人 | 细美事有限公司 | 发明人 | 李俊镐;吴昌石 |
| 分类号 | B05B13/02(2006.01)I;B05B13/04(2006.01)I;H01L21/67(2006.01)I;H01L21/02(2006.01)I | 主分类号 | B05B13/02(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京中博世达专利商标代理有限公司 11274 | 代理人 | 申健 |
| 主权项 | 一种基板处理装置，其特征在于，包括：板，支承基板；喷嘴单元，向被所述板支承的所述基板涂敷药液；驱动单元，使所述基板或所述喷嘴单元移动，以使置于所述板上的基板与所述喷嘴单元之间的相对位置改变；所述喷嘴单元包括：第一喷出部件，沿第一方向形成该第一喷出部件的横方向，该第一喷出部件向所述基板喷出第一药液；第二喷出部件，沿第一方向形成该第二喷出部件的横方向，该第二喷出部件向所述基板喷出第二药液。 | ||
| 地址 | 韩国忠淸南道天安市西北区稷山邑毛枾里278 | ||