电磁屏蔽方法及制品

摘要

本发明提供一种电磁屏蔽方法，其包括如下步骤：提供基体；采用真空镀膜法，以氧化铝或二氧化硅为蒸发材料，以氧气为补偿气体，于基体上形成一绝缘层，该绝缘层为二氧化硅层或氧化铝层；采用真空镀膜法，在室温下，以铬靶为靶材，于该绝缘层上形成一铬层；采用真空镀膜法，在室温下，以铜靶为靶材，于该铬层上形成一铜层；采用真空镀膜法，在室温下，以铬靶、不锈钢靶及镍铬合金靶中的任意一种为靶材，于该铜层上形成一防护层，所述防护层为铬层、不锈钢层或镍铬合金层。本发明还提供了经由上述电磁屏蔽方法制得的制品。

主权项

一种制品，包括基体，其特征在于：该制品还包括依次形成于该基体上的绝缘层、导电层及防护层，该绝缘层为二氧化硅层或氧化铝层，该导电层包括依次形成于所述绝缘层上的铬层及铜层，所述防护层为铬层、不锈钢层或镍铬合金层。