发明名称 |
一种提高极紫外光谱纯度及热稳定性的新型多层膜 |
摘要 |
一种提高极紫外光谱纯度及热稳定性的新型多层膜,属于极紫外光刻领域,该新型多层膜为在基底上依次镀制Si层和Mo层交替的周期性多层膜,还包括热稳定层,所述热稳定层制作在Si层和Mo层交替的周期性多层膜上;本发明通过在Si层和Mo层交替的周期性多层膜上镀制Si3N4热稳定层可以在不改变膜系的外形、不增加光学元件、不改变光线的辐射方向、也不增加额外的加工步骤的前提下,既保证极紫外波段的反射率损耗可忽略又使带外波段的反射率得到有效抑制,同时使多层膜的热稳定性得到提高。 |
申请公布号 |
CN103091744A |
申请公布日期 |
2013.05.08 |
申请号 |
CN201310037265.4 |
申请日期 |
2013.01.30 |
申请人 |
中国科学院长春光学精密机械与物理研究所 |
发明人 |
金春水;祝文秀;匡尚奇 |
分类号 |
G02B5/08(2006.01)I;G03F7/20(2006.01)I |
主分类号 |
G02B5/08(2006.01)I |
代理机构 |
长春菁华专利商标代理事务所 22210 |
代理人 |
南小平 |
主权项 |
一种提高极紫外光谱纯度及热稳定性的新型多层膜,该多层膜为在基底(1)上依次镀制Si层(2)和Mo层(3)交替的周期性多层膜,其特征是,还包括热稳定层(4);所述热稳定层(4)制作在Si层(2)和Mo层(3)交替的周期性多层膜上。 |
地址 |
130033 吉林省长春市东南湖大路3888号 |