浅槽隔离结构及其进行离子注入的方法

摘要

本发明公开了一种浅槽隔离结构，其截面形状呈现为正梯形，即开口处的宽度小于底部的宽度，其侧壁与底部的夹角为锐角；所述浅槽隔离结构包括内侧墙和填充结构两部分，所述填充结构的截面形状为矩形或倒梯形，倒梯形指开口处的宽度大于底部的宽度。本发明还公开了所述浅槽隔离结构进行离子注入的方法。本发明由于采用了正梯形的沟槽截面形状，因此对沟槽底部进行离子注入时可以采用高能量的离子注入工艺，而不用担心会对沟槽的侧壁造成损害。沟槽中的内侧墙可以避免沟槽填充出现空洞的问题。

主权项

一种浅槽隔离结构，其特征是，其截面形状呈现为正梯形，即开口处的宽度小于底部的宽度，其侧壁与底部的夹角为锐角；所述浅槽隔离结构包括内侧墙和填充结构两部分，所述填充结构的截面形状为矩形或倒梯形，倒梯形指开口处的宽度大于底部的宽度。