投影曝光装置

摘要

本发明提供一种投影曝光装置，其具有遮光单元，该遮光单元使伴随基板的运入运出的遮光部件的安装和卸下的所需时间变短。投影曝光装置具有：投影光学系统，其将包含紫外线的光线照射在光掩模上，将通过了光掩模的光线投影在涂布了光致抗蚀剂的基板上；基板台，其载置基板；以及遮光单元，其遮盖基板的周边部而遮住光线。而且，遮光单元（80）具有：第1遮光部件和第2遮光部件（84、86），它们分别具有大致半圆形的开口部；以及移动单元（82、83），它们移动第1遮光部件和第2遮光部件，使两者相互接近或远离。因此，当第1遮光部件和第2遮光部件相互接近时，第1遮光部件和第2遮光部件形成环状，来遮盖基板（CB）的周边部。

主权项

一种投影曝光装置，其具有：投影光学系统，其将包含紫外线的光线照射在光掩模上，将通过了所述光掩模的光线投影到涂布了光致抗蚀剂的基板上；基板台，其载置所述基板；以及遮光单元，其遮盖所述基板的周边部而遮住所述光线，所述遮光单元具有：第1遮光部件和第2遮光部件，它们分别具有大致半圆形的开口部；以及移动单元，其移动所述第1遮光部件和第2遮光部件，使两者相互接近或远离，在所述第1遮光部件和第2遮光部件相互接近时，所述第1遮光部件和第2遮光部件形成环状而遮盖所述基板的周边部。