发明名称 调整闪耀光栅离子束刻蚀装置中栅线与束流垂直度的方法
摘要 调整闪耀光栅离子束刻蚀装置中栅线与束流垂直度的方法,涉及光谱技术领域,解决现有调整离子束与光栅刻线方向垂直度的方法存在垂直度精度较低且存在误差的问题,建立离子束刻蚀装置;制备刻有两条正交直线及开有中心圆孔的平板;在离子束刻蚀装置中置入激光器、反射镜及平板,使激光器发出的激光束通过平板中心圆孔入射到反射镜,经反射镜反射的光入射至光栅表面形成0级衍射光及-1级衍射光;通过调整五维样品台的旋转及俯仰,使-1级衍射光入射回平板的圆孔内;最终光栅栅线与离子束流的垂直度调整完毕。该方法能快速准确的调整光栅栅线与离子束流的垂直度,对制作出高质量的平面闪耀全息光栅有直接的重要意义。
申请公布号 CN103091753A 申请公布日期 2013.05.08
申请号 CN201310011786.2 申请日期 2013.01.11
申请人 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所 发明人 谭鑫;吴娜;巴音贺希格;齐向东
分类号 G02B5/18(2006.01)I;G03F7/20(2006.01)I 主分类号 G02B5/18(2006.01)I
代理机构 长春菁华专利商标代理事务所 22210 代理人 陶尊新
主权项 调整闪耀光栅离子束刻蚀装置中栅线与束流垂直度的方法,其特征是,该方法由以下步骤实现:步骤一、离子源(6)产生离子束流经离子源栅网出射,所述离子束流(7)的出射方向垂直于离子源栅网(5)平面;步骤二、光源光束经平板(2)的中心圆孔(13)入射至反射镜(4),经反射镜(4)反射的光束入射至光栅(9)表面形成0级衍射光和‑1级衍射光;0级衍射光入射至平板(2)的中心圆孔(13)内并与光栅(9)栅线垂直;所述反射镜(4)固定在步骤一所述的离子源栅网(5)表面,反射镜(4)的反射面与离子源栅网(5)表面平行;步骤三、调整光栅,使步骤二所述的‑1级衍射光入射至平板(2)的中心圆孔(13),入射至平板(2)的中心圆孔(13)的‑1级衍射光与光栅(9)栅线垂直,所述‑1级衍射光所形成的平面与反射镜(4)的反射面垂直,最终实现离子束流方向与光栅(9)栅线方向垂直。
地址 130033 吉林省长春市东南湖大路3888号