一种超光滑表面清洗方法

摘要

本发明公开了一种超光滑表面清洗方法，依次对待清洗基片利用N-甲基吡咯烷酮洗液进行超声波清洗，利用APG0810洗液进行超声波清洗，利用酒精丙酮混合洗液进行兆声清洗，利用浓HNO3与H2O2混合洗液进行浸泡清洗，采用纯水兆声波进行清洗，利用高速离心机进行脱水干燥，使用射频等离子清洗机，清洗气体为氧气、氮气、氩气中的任意一种或任意两种的混合气体进行清洗。本发明能够去除超光滑表面亚微米级以下的颗粒污垢，从而获得高洁净的超光滑表面。

主权项

一种超光滑表面清洗方法，其特征在于包括下述步骤：(1)利用N‑甲基吡咯烷酮洗液对待清洗基片进行超声频率40KHz的超声波清洗15～35min，经过纯水漂洗2～5次后转入下步工序；(2)利用pH值为7～10、质量浓度为0.2％～0.8％的APG0810洗液对基片进行超声频率80KHz的超声波清洗10～25min，经过纯水漂洗2～5次后转入下步工序；(3)利用体积比为酒精∶丙酮1∶1～1∶3的酒精丙酮混合洗液对基片进行频率为1MHz的兆声清洗5～10min，经过纯水漂洗2～5次后转入下步工序；(4)在70～75℃下，利用体积比为浓HNO3∶H2O2∶H2O＝1∶1∶1～1∶1∶3的混合洗液对基片进行浸泡清洗1～2h，经过纯水漂洗2～5次后转入下步工序；(5)在90～100℃下采用频率为1MHz的纯水兆声波对基片进行清洗10～20min；(6)利用转速为2000～3000rpm的高速离心机对基片进行脱水干燥5～10min；(7)使用功率为50～180w的射频等离子清洗机，清洗气体为氧气、氮气、氩气中的任意一种或任意两种的混合气体进行清洗2～10min。