| 发明名称 | 光刻设备和衬底处理方法 | ||
| 摘要 | 一种光刻设备布置用以将图案从图案形成装置转移至衬底上，所述光刻设备包括构造用以保持衬底的衬底台和布置用以将衬底定位在衬底台上的夹具。所述夹具包括真空夹紧装置，所述真空夹紧装置布置成在衬底的顶侧夹紧衬底。在一个实施例中，真空夹紧装置布置成夹紧衬底顶表面的圆周外部区域的至少一部分。还提供了衬底处理方法，包括步骤：使用夹具将衬底定位在光刻设备的衬底台上，所述方法包括使用所述夹具的真空夹紧装置在衬底的顶侧处夹紧衬底。 | ||
| 申请公布号 | CN103091998A | 申请公布日期 | 2013.05.08 |
| 申请号 | CN201210405979.1 | 申请日期 | 2012.10.23 |
| 申请人 | ASML荷兰有限公司 | 发明人 | R·W·L·拉法瑞;H·M·塞格斯;T·P·M·卡迪;黄仰山;C·L·瓦伦丁 |
| 分类号 | G03F7/20(2006.01)I;H01L21/687(2006.01)I | 主分类号 | G03F7/20(2006.01)I |
| 代理机构 | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人 | 王静 |
| 主权项 | 一种光刻设备，布置用以将图案从图案形成装置转移至衬底上，所述光刻设备包括构造用以保持衬底的衬底台和布置用以将衬底定位在衬底台上的夹具，所述夹具包括真空夹紧装置，所述真空夹紧装置布置成在衬底的顶侧夹紧衬底。 | ||
| 地址 | 荷兰维德霍温 | ||