具有气体注射分配装置的喷头组件

摘要

本发明提供一种可应用于化学气相沉积和/或氢化物气相外延(HVPE)沉积的方法及装置。所述装置包括喷头组件，所述喷头组件具有独立入口和歧管，用于将独立的处理气体输送到腔室的处理空间中且不会在气体进入处理空间前混合气体。喷头包括设置在多个气体入口内的多个气体分配装置，用于将所述处理气体中的一种气体注射入歧管并分配于所述歧管上，以便均匀输送至腔室的处理空间中。气体分配装置中的每一个气体分配装置优选具有喷嘴，喷嘴被配置为均匀分配流经所述喷嘴中的处理气体同时使歧管内处理气体的再循环最小化。由此，可在放置在处理腔室的处理空间中的多个基板上得到改进的沉积均匀性。

主权项

一种喷头组件，包括：喷头，所述喷头具有设置在所述喷头中的第一气体歧管；多个第一气体导管，所述第一气体导管穿过所述喷头延伸且将所述第一气体歧管流体耦接至所述喷头的出口表面；以及多个气体分配装置，每个所述气体分配装置中都形成有环形孔口，所述环形孔口与所述第一气体歧管流体连通且被配置为耦接至气源。