发明名称 基板涂敷设备和所述基板涂敷设备的涂敷方法
摘要 [目的]为了提供一种能够横过基板的整个长度和宽度施加一致厚度的涂层的基板涂敷设备及涂敷方法。[装置]作为调节形成于涂敷喷嘴上的排出口(4)的位置的装置,喷嘴定位器(5a~5e)横过涂敷喷嘴(3)的长度以适合的间隔安装。在涂敷喷嘴向前移动期间,安装到与对应的喷嘴定位器组成组的涂敷喷嘴上的每个距离传感器(6a~6e)沿基板的长度在多个量测点处测量涂敷喷嘴和基板(2)之间的间隙量,以便通过栅格图案测量基板表面上的波形变形。根据从每个距离传感器输入的间隙量数据,控制单元通过沿基板的长度在每个距离传感器处的平均间隙量的计算值来控制每个喷嘴定位器的致动。
申请公布号 CN101279310B 申请公布日期 2013.05.08
申请号 CN200710196478.6 申请日期 2007.12.05
申请人 中外炉工业株式会社 发明人 荻野忠弘;土井敏也;泽田英之;田边雄二
分类号 B05C5/02(2006.01)I;B05C11/02(2006.01)I;B05D1/26(2006.01)I 主分类号 B05C5/02(2006.01)I
代理机构 中科专利商标代理有限责任公司 11021 代理人 王新华
主权项 一种基板涂敷设备,包括: 涂敷喷嘴,所述涂敷喷嘴形成为在关于存在于基座板上的基板的横向方向上纵向设置的线性件,所述涂敷喷嘴移动过所述基板的长度,以便将涂层施加到所述基板上;其中: 所述涂敷喷嘴包括横过所述基座板的宽度设置在所述基板的两侧的左支腿件及右支腿件;连接和跨越所述左支腿件和右支腿件的垂直壁件;刚性的抗弯曲反作用框架,所述反作用框架在所述垂直壁件的上方跨越所述支腿件;以及喷嘴体,所述喷嘴体设置在反作用框架的下方且由所述左支腿件和右支腿件以及所述垂直壁件围绕, 狭缝形状的排出口,所述排出口沿所述喷嘴体的长度形成; 多个喷嘴定位器,所述多个喷嘴定位器沿所述反作用框架的长度以适当的间隔安装,通过喷嘴定位器将喷嘴体支撑到所述反作用框架,以及通过获得的相对所述反作用框架的反作用力向下推动或向上拉起所述喷嘴体,用于通过所述喷嘴体的弯曲调节所述排出口的高度; 多个类似地定位的距离传感器,所述多个类似地定位的距离传感器安装到所述涂敷喷嘴,每个所述类似定位的距离传感器位于与所述多个喷嘴定位器中的对应的喷嘴定位器相同的位置处,且每个所述类似定位的距离传感器用于在所述涂敷喷嘴横过所述基板移动的同时在所述基板上的栅格图案上测量所述基板表面上的波形结构的高度,在沿所述基板的长度设定的多个量测点处测量所述涂敷喷嘴和所述基板之间的间隙量;以及 控制单元,所述控制单元利用从每个所述类似地定位的距离传感器输入的间隙量,计算沿所述基板的长度的每个所述类似地定位的距离传感器处的平均间隙量,并根据所述平均间隙量控制所述喷嘴定位器的致动。
地址 日本国大阪府