发明名称 |
成膜装置及其运用方法 |
摘要 |
本发明提供成膜装置及其运用方法。在成膜装置的运用方法中,在处理容器内进行在保持于保持部件的被处理体的表面形成碳膜的成膜工序,并且为了除去无用的碳膜而利用清洁气体进行清洁工序,其中,在成膜工序之前,在接触于处理容器内的处理空间的构件的表面形成提高碳膜的密合性且相对于清洁气体具有耐受性的耐受性预涂膜。由此,提高了碳膜的密合性,而且即使进行除去无用的碳膜的清洁处理,也会残留耐受性预涂膜。 |
申请公布号 |
CN103088313A |
申请公布日期 |
2013.05.08 |
申请号 |
CN201210419154.5 |
申请日期 |
2012.10.26 |
申请人 |
东京毅力科创株式会社 |
发明人 |
远藤笃史;水永觉;大塚武裕 |
分类号 |
C23C16/26(2006.01)I;C23C16/34(2006.01)I;C23C16/44(2006.01)I;H01L21/31(2006.01)I |
主分类号 |
C23C16/26(2006.01)I |
代理机构 |
北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 |
代理人 |
刘新宇;张会华 |
主权项 |
一种成膜装置的运用方法,在该成膜装置的运用方法中,在处理容器内进行在保持于保持部件的多个被处理体的表面形成碳膜的成膜工序,并且为了除去已附着在上述处理容器内的无用的碳膜而利用清洁气体进行清洁工序,其特征在于,在上述成膜工序之前,进行在接触于上述处理容器内的处理空间的构件的表面形成提高碳膜的密合性且相对于上述清洁气体具有耐受性的耐受性预涂膜的耐受性预涂膜形成工序。 |
地址 |
日本东京都 |