发明名称 | 粒子线照射系统以及带电粒子束的修正方法 | ||
摘要 | 本发明提供一种粒子线照射系统以及带电粒子束的修正方法,能够不降低照射剂量一致度地提高射束利用效率。该粒子线照射系统具备:将离子束(10)加速后射出的同步加速器(13)、照射从同步加速器(13)射出的离子束(10)的照射装置(30),从照射装置(30)多次进行一个单位的照射,其特征在于,具备:测量同步加速器(13)内的积蓄射束电荷量(Qmeas)的积蓄射束电荷量测量单元(15);目标电流设定单元,其根据通过积蓄射束电荷量测量单元测量出的积蓄射束电荷量(Qmeas),设定从同步加速器(13)射出的目标射束电流值(Ifb);出射射束电流修正控制单元,其根据由上述目标电流设定单元求出的出射射束电流的目标值(Ifb)控制射束电流。 | ||
申请公布号 | CN103083828A | 申请公布日期 | 2013.05.08 |
申请号 | CN201210429321.4 | 申请日期 | 2012.10.31 |
申请人 | 株式会社日立制作所 | 发明人 | 西内秀晶;藤高伸一郎 |
分类号 | A61N5/10(2006.01)I | 主分类号 | A61N5/10(2006.01)I |
代理机构 | 北京银龙知识产权代理有限公司 11243 | 代理人 | 曾贤伟;曹鑫 |
主权项 | 一种粒子线照射系统,具备将离子束加速后射出的同步加速器、照射从上述同步加速器射出的上述离子束的照射装置,从上述照射装置多次进行一个单位的照射,其特征在于,包括:积蓄射束电荷量测量单元,其测量上述同步加速器内的积蓄射束电荷量;目标电流设定单元,其根据由上述积蓄射束电荷量测量单元测量出的积蓄射束电荷量,设定从上述同步加速器射出的目标射束电流值;以及出射射束电流修正控制单元,其根据由上述目标电流设定单元求出的上述目标射束电流值,控制射束电流。 | ||
地址 | 日本东京都 |