化学气相淀积设备

摘要

本发明实施例公开了一种化学气相淀积设备，包括反应腔，还包括位于所述反应腔外部且与所述反应腔相连的等离子体产生腔，与所述等离子体产生腔相连的射频发生装置。在工作过程中，所述射频发生装置发射出的射线在所述等离子体产生腔内与反应气体相接触并产生反应，进而解离出后续生产所需的等离子体，从而使得等离子体的制备工作能够在所述反应腔本体的外部完成，有效减少了等离子体制备过程中的射频及解离等工序对反应腔本体的损伤，延长了所述反应腔本体各相关部件的使用寿命，同时避免了硅片表面固体膜上的颗粒沾污现象，提高了产品产量和合格率。

主权项

一种化学气相淀积设备，其特征在于，包括：反应腔；位于所述反应腔外部且与所述反应腔相连的等离子体产生腔；与所述等离子体产生腔相连的射频发生装置。