基板处理系统和基板搬送方法

摘要

本发明提供一种基板处理系统和基板搬送方法。涂敷显影处理系统的交接站（5）具有：将晶片搬入到曝光装置之前至少清洗晶片的背面的晶片清洗单元（141）、至少对清洗后的晶片的背面在其被搬入到曝光装置之前检查该晶片能否在曝光装置中进行曝光的晶片检查单元（142）、具有在各单元（141、142）之间搬送基板的臂的晶片搬送装置（120、130）和控制晶片搬送装置（120、130）的动作的晶片搬送控制部。晶片搬送控制部控制晶片搬送装置（120、130），使得当检查的结果被判断为，晶片的状态是通过由清洗单元（141）再清洗成为能够曝光的状态时，再次将该晶片搬送到清洗单元（141）。

主权项

一种基板处理系统，其包括设置有对基板进行处理的多个处理单元的处理站；和在所述处理站和设置于外部的曝光装置之间进行基板的交接的交接站，该基板处理系统的特征在于：所述交接站具有：在将基板搬入到所述曝光装置之前至少清洗基板的背面的基板清洗部；和在清洗后的所述基板搬入到所述曝光装置之前，至少对于清洗后的所述基板的背面检查该基板能否进行曝光的基板检查部，所述基板清洗部和所述基板检查部配置于同一箱体的内部，在所述箱体的内部，设置有在所述基板清洗部和所述基板检查部之间搬送基板的搬送手段。