发明名称 抗蚀剂涂布显影装置和抗蚀剂涂布显影方法
摘要 本发明提供一种能够避免工艺过程气氛污染并且高效降低抗蚀图案的线宽粗糙度的抗蚀剂涂布显影装置和抗蚀剂涂布显影方法。抗蚀涂布显影装置(1)具备在基板(W)上涂布抗蚀剂而形成抗蚀膜的抗蚀膜形成部;对曝光的抗蚀膜进行显影的抗蚀剂显影部(18);生成包含对抗蚀膜具有溶解性的溶剂的蒸汽或气体的气体的溶剂气体生成部;调整利用气体生成部生成的气体的溶剂气体调整部;收纳具有在抗蚀剂显影部(18)显影而图案化的抗蚀膜的基板的、能够维持减压的处理室(62),该处理室(62)包括向所收纳的基板(W)供给利用溶剂气体调整部调整的气体的供给部;和对处理室进行减压排气的排气部。
申请公布号 CN102023498B 申请公布日期 2013.05.08
申请号 CN201010282254.9 申请日期 2010.09.14
申请人 东京毅力科创株式会社 发明人 稻富裕一郎
分类号 G03F7/36(2006.01)I 主分类号 G03F7/36(2006.01)I
代理机构 北京尚诚知识产权代理有限公司 11322 代理人 龙淳
主权项 一种抗蚀剂涂布显影装置,其特征在于,具备:抗蚀膜形成部,其在基板上涂布抗蚀剂而形成抗蚀膜;抗蚀剂显影部,其对曝光的所述抗蚀膜进行显影;溶剂气体生成部,其设定为规定温度,生成包含对所述抗蚀膜具有溶解性的溶剂的蒸汽或气体的气体;溶剂气体调整部,其设定为比所述规定温度低的温度,调整利用所述气体生成部生成的所述气体;能够维持减压的处理室,其设定为比所述规定温度低的温度,收纳具有在所述抗蚀剂显影部显影而图案化的所述抗蚀膜的基板;加热部,其内藏于设置在所述处理室内并载置所收纳的所述基板的基座中,对所述基板进行加热;供给部,其向所述基座上的所述基板供给利用所述溶剂气体调整部调整的所述气体;排气部,其对所述处理室进行减压排气;和温度控制部,其从所述供给部向所述基板供给所述气体后,对所述加热部进行升温,其中,所述溶解性是指即使不使抗蚀膜溶解至消失,也被抗蚀膜吸收而使吸收的部分膨润的性质,所述温度控制部由电源、温度测定部和温度调整器构成。
地址 日本东京都