发明名称 |
展示出对光学上劣化的外部效应的改进抵抗性的光学系统 |
摘要 |
提供了一种用于投射一个或多个合成光学图像的系统,其展示出对光学上劣化的外部效应的改进的抵抗性。本发明的系统用来使聚焦元件的焦距锁定在适当的位置。换句话说,并无与本发明的系统接触的其他透明材料或层会起到显著地改变由所述系统形成的合成图像的焦距或光学锐度的作用。 |
申请公布号 |
CN103097919A |
申请公布日期 |
2013.05.08 |
申请号 |
CN201180040538.X |
申请日期 |
2011.06.22 |
申请人 |
光学物理有限责任公司 |
发明人 |
R.A.斯蒂恩布利克;M.J.赫特;S.M.凯普;G.R.乔丹 |
分类号 |
G02B3/00(2006.01)I;B42D15/00(2006.01)I;G02B27/22(2006.01)I;G02B3/04(2006.01)I |
主分类号 |
G02B3/00(2006.01)I |
代理机构 |
中国专利代理(香港)有限公司 72001 |
代理人 |
刘金凤;王忠忠 |
主权项 |
一种用于投射一个或多个合成光学图像的系统,其展示出对光学上劣化的外部效应的改进的抵抗性,并且其包括:(a)图像图标的一个或多个布置;以及(b)图像图标聚焦元件的一个或多个部分或全部嵌入的布置,其中,图像图标聚焦元件的所述一个或多个布置相对于图像图标的所述一个或多个布置被布置为使得所述图像图标聚焦元件的至少一部分形成所述图像图标的至少一部分的至少一个合成图像。 |
地址 |
美国乔治亚州 |