| 发明名称 | 光刻设备和器件制造方法 | ||
| 摘要 | 一种光刻设备，包括：衬底台，构造用以保持衬底；隔间，用于放置衬底台；热调节单元，布置成接纳将要被曝光的衬底和热调节衬底；和转移系统，用于将热调节后的衬底转移至衬底台，其中至少在将热调节后的衬底从热调节单元转移至衬底台期间所述衬底台和热调节单元布置在光刻设备的隔间内部。 | ||
| 申请公布号 | CN103091999A | 申请公布日期 | 2013.05.08 |
| 申请号 | CN201210413077.2 | 申请日期 | 2012.10.25 |
| 申请人 | ASML荷兰有限公司 | 发明人 | J·S·C·维斯特尔拉肯;R·詹森;E·弗乐尔特 |
| 分类号 | G03F7/20(2006.01)I | 主分类号 | G03F7/20(2006.01)I |
| 代理机构 | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人 | 王鹏鑫 |
| 主权项 | 一种光刻设备，包括：衬底台，构造用以保持衬底；隔间，配置成接纳所述衬底台；热调节单元，布置成接纳将要被曝光的衬底，和热调节所述衬底；以及转移系统，配置成将热调节后的衬底转移至所述衬底台，其中，在将热调节后的衬底从所述热调节单元转移至所述衬底台期间，所述衬底台和热调节单元布置在所述光刻设备的隔间内部。 | ||
| 地址 | 荷兰维德霍温 | ||