发明名称 聚焦装置和激光加工设备
摘要 本发明公开了一种聚焦装置和激光加工设备。用于激光加工设备的聚焦装置,包括:物镜,该物镜发出加工激光束;位移传感器,该位移传感器发出测量光并利用测量光的反射光测量物体的位移或到物体的距离;漫反射器,该漫反射器设置在一位置中,从工件的表面被规则地反射的测量光被入射至位置;以及聚焦部,该聚焦部基于位移传感器的测量结果使物镜聚焦,其中,当测量光从工件的表面被规则地反射时,聚焦部基于第一测量结果使物镜聚焦,第一测量结果是在从工件的表面被规则地反射的测量光从漫反射器被漫反射之后由位移传感器利用从工件的表面反射的第一反射光测得的。
申请公布号 CN103093767A 申请公布日期 2013.05.08
申请号 CN201210404883.3 申请日期 2012.10.22
申请人 欧姆龙株式会社 发明人 久所之夫;三浦泰祐
分类号 G11B7/09(2006.01)I;G11B7/1372(2012.01)I 主分类号 G11B7/09(2006.01)I
代理机构 北京康信知识产权代理有限责任公司 11240 代理人 李静;马强
主权项 一种用于激光加工设备的聚焦装置,包括:物镜,所述物镜发出加工激光束;位移传感器,所述位移传感器发出测量光并利用所述测量光的反射光测量物体的位移或到所述物体的距离;漫反射器,所述漫反射器设置在一位置中,从工件的表面被规则地反射的所述测量光被入射至所述位置;以及聚焦部,所述聚焦部基于所述位移传感器的测量结果使使所述物镜聚焦,其中,当所述测量光从所述工件的表面被规则地反射时,所述聚焦部基于第一测量结果使使所述物镜聚焦,所述第一测量结果是在从所述工件的表面被规则地反射的所述测量光从所述漫反射器被漫反射之后由所述位移传感器利用从所述工件的表面反射的第一反射光测得的。
地址 日本京都