发明名称 | 基板处理设备和化学物再循环方法 | ||
摘要 | 本发明提供一种基板处理设备,根据本发明的实施例的基板处理设备可以包括:清洁基板上的异物的清洁室;以及通过回收混合溶液来进行再循环的再循环单元,该混合溶液包括在基板清洁中使用的第一化学物和第二化学物,其中,再循环单元包括:分离单元,其分离从清洁室回收的混合溶液;回收管线,其连接分离单元和清洁室,并使该混合溶液流入分离单元中;减压管线,其一端连接到分离单元并且排放从分离单元蒸发的混合溶液;以及减压单元,其安装在减压管线中并且减小分离单元中的压力。 | ||
申请公布号 | CN103094158A | 申请公布日期 | 2013.05.08 |
申请号 | CN201210425776.9 | 申请日期 | 2012.10.31 |
申请人 | 细美事有限公司 | 发明人 | 刘栽领;黄东淳;姜丙喆 |
分类号 | H01L21/67(2006.01)I | 主分类号 | H01L21/67(2006.01)I |
代理机构 | 北京品源专利代理有限公司 11332 | 代理人 | 杨生平;钟锦舜 |
主权项 | 一种基板处理设备,包括:清洁基板上的异物的清洁室;以及通过回收混合溶液来进行再循环的再循环单元,所述混合溶液包括在所述基板清洁中使用的第一化学物和第二化学物,其中,所述再循环单元包括:分离单元,其分离从所述清洁室回收的所述混合溶液;回收管线,其连接所述分离单元和所述清洁室,并使所述混合溶液流入所述分离单元中;减压管线,其一端连接到所述分离单元并且排放从所述分离单元蒸发的所述混合溶液;以及减压单元,其安装在所述减压管线中并且减小所述分离单元中的压力。 | ||
地址 | 韩国忠清南道 |