基板处理设备、工作台机构、定位方法以及程序

摘要

一种基板处理设备、工作台机构、定位方法以及程序，该基板处理设备包括：工作台、偏心凸轮机构、参考标记、成像单元以及控制器。所述工作台用于定位基板。所述偏心凸轮机构包括偏心凸轮，所述偏心凸轮构造以通过旋转移动所述工作台。所述参考标记根据所述工作台的移动而移动。所述成像单元构造以成像所述参考标记。所述控制器构造成旋转所述偏心凸轮以移动所述工作台，通过所述成像单元成像根据所述工作台的移动而移动的参考标记，以测量所述工作台相对于所述偏心凸轮旋转的移动量，并且在定位所述基板时根据测量的移动量来旋转所述偏心凸轮以定位所述基板。

主权项

一种基板处理设备，包括：工作台，其用于定位基板；偏心凸轮机构，其包括偏心凸轮，所述偏心凸轮构造成通过旋转来移动所述工作台；参考标记，其根据所述工作台的移动而移动；被构造成对所述参考标记进行成像的成像单元；以及控制器，所述控制器构造成旋转所述偏心凸轮以移动所述工作台，通过所述成像单元对于根据所述工作台的移动而移动的所述参考标记进行成像，以测量所述工作台相对于所述偏心凸轮的旋转的移动量，并且在定位所述基板时根据测量的所述移动量来旋转所述偏心凸轮以定位所述基板。