| 摘要 |
<p>다음 단계를 포함하는 기판의 상부 면상에 200 ㎛보다 작은 층 두께를 가지는 플라스틱 층을 형성하기 위한 방법: -파우더 스캐터링 장치(powder scattering device)에 의하여 기판 상부 면으로 플라스틱 파우더를 도포하는 단계, -그 후 상기 기판 하부 면을 세척하는(cleaning) 단계, -그 후 상기 기판 상에 플라스틱 층이 형성되도록 화로(furnace)에서 도포된 플라스틱 파우더를 녹이는(melting) 단계, 및 -상기 기판의 냉각(cooling) 단계, 여기에서, 상기 기판은 끊임없이 단계에서 단계로 운반됨.</p> |
