| 发明名称 |
Procédé pour déposer des couches épitaxiales de matières composées semi-conductrices |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
FR1399443(A) |
申请公布日期 |
1965.05.14 |
| 申请号 |
FR19640979591 |
申请日期 |
1964.06.25 |
| 申请人 |
RADIO CORPORATION OF AMERICA |
发明人 |
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| 分类号 |
C30B25/02;C30B25/08;H01L21/205 |
主分类号 |
C30B25/02 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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