发明名称 POLISHING AGENT FOR SILICON OXIDE, LIQUID ADDITIVE, AND METHOD OF POLISHING
摘要 <p>본 발명의 연마제는, 폴리실리콘상의 산화규소막을 연마하기 위한 연마제로서, 연마입자, 폴리실리콘 연마 억제제 및 물을 포함한다. 상기 연마 억제제로서, (1) 아크릴아미드, 메타아크릴아미드 및 그의α-치환체로 이루어지는 군의 어느 하나의 N-모노치환체 또는 N,N-디치환체의 골격을 가지는 수용성 고분자, (2) 폴리에틸렌글리콜 (3) 아세틸렌계 디올의 옥시에틸렌 부가체, (4) 아세틸렌결합을 가지는 수용성 유기 화합물, (5) 알콕실화 직쇄 지방족 알코올의 어느 하나의, 또는 (6) 폴리비닐피롤리돈 또는 비닐피롤리돈을 포함하는 공중합체를 사용하는 것이 바람직하다. 반도체 제조방법에 있어서, 폴리실리콘막상의 산화규소막을 고속으로 연마할 수 있고, 또한, 폴리실리콘막의 노출시에 폴리실리콘막의 연마의 진행을 억제할 수 있는 산화규소용 연마제와 그것을 이용한 연마 방법을 제공할 수 있다.</p>
申请公布号 KR101260621(B1) 申请公布日期 2013.05.03
申请号 KR20117030578 申请日期 2006.11.09
申请人 发明人
分类号 B24B1/00;B24B37/00;C09K3/14;H01L21/304 主分类号 B24B1/00
代理机构 代理人
主权项
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