| 摘要 |
Es werden ein Verfahren und eine Vorrichtung zum Reinigen von Schichten von Solarzellensubstraten offenbart. Das Substrat wird gegenüber einem reaktiven Gas exponiert, welches neutrale Radikale umfassen kann, die Stickstoff und Fluor umfassen, oder welches wasserfreies HF und Wasser, Alkohol oder ein Gemisch von Wasser und Alkohol umfassen kann. Das reaktive Gas kann ferner ein Trägergas umfassen. Das reaktive Gas ätzt die Oberfläche des Solarzellensubstrats, wobei es Sauerstoff und andere Verunreinigungen entfernt. Wenn das Substrat gegenüber den neutralen Radikalen exponiert wird, bildet sich auf ihm ein Ammoniumhexafluorosilikat enthaltender dünner Film, welcher anschließend durch Wärmebehandlung entfernt wird. |
