| 发明名称 |
聚合物、光阻组合物及形成图案之方法 |
| 摘要 |
在此提供一种内含式(1a)至(1d)重复单元的氟化聚合物，其Mw在1,000－500,000。R1为对酸不稳定的基围，R2为单键或亚甲基，a1、a2、a3、及a4为从大于0至小于1的数字，且0<a1＋a2＋a3＋a4≦1，b为1或2，且c为0或1。一种包含此聚合物的光阻组合物，当经由包含ArF曝光的微影技术加工，可具有许多优点，包括解析度、线缘粗糙度、蚀刻抗性。;(1a) (1b) (1c) (1d) |
| 申请公布号 |
TWI394762 |
申请公布日期 |
2013.05.01 |
| 申请号 |
TW095103181 |
申请日期 |
2006.01.26 |
| 申请人 |
信越化学工业股份有限公司 日本;松下电器产业股份有限公司 日本;中央硝子股份有限公司 日本 |
发明人 |
原田裕次;畠山润;河合义夫;笹子胜;远藤政孝;前田一彦;小森谷治彦;大谷充孝 |
| 分类号 |
C08F220/24;C08F220/28;C08F232/08;G03F7/004;G03F7/039;H01L21/027 |
主分类号 |
C08F220/24 |
| 代理机构 |
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代理人 |
林志刚 台北市中山区南京东路2段125号7楼 |
| 主权项 |
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| 地址 |
日本 |
