| 摘要 |
本发明系一种正型光阻组成物，其系含有：藉由酸之作用成为可溶于硷显像液的树脂成分(A)及感应活性光线或辐射线产生酸的化合物(B)，树脂成分(A)为具有下述一般式(1)表示之重复单位的高分子化合物。;(1);(R1系氢原子、甲基或三氟甲基，R2、R3系烷基，R4系一价烃基，X1系O、S或CH2CH2；X2系表示O、S、CH2或CH2CH2；n系1或2；a、b、c、d1、d2系分别表示各重复单位的存在比，a、b系0.01以上未达1；c、d1、d2系0以上未达1；d1与d2不同时为0；a＋b＋c＋d1＋d2＝1)。;本发明之光阻材料系在微细加工技术，特别是ArF微影技术中，具有极高解像性，可提供矩形性高的图型，非常适合精密之微细加工。 |
