| 发明名称 |
化合物、酸产生剂、光阻组成物及光阻图型之形成方法 |
| 摘要 |
本发明提供一种适合作为光阻组成物用酸产生剂之化合物，该化合物所形成之酸产生剂，含有该酸产生剂之光阻组成物，及使用该光阻组成物之光阻图型之形成方法。;上述化合物系以下述通式(b1－12)表示。;R2－CH2－O－Y1－SO3－A＋;〔式中，R2为1价之芳香族有机基；Y1为可被氟取代之碳数1~4之伸烷基；A＋为阳离子〕。 |
| 申请公布号 |
TWI394741 |
申请公布日期 |
2013.05.01 |
| 申请号 |
TW097113507 |
申请日期 |
2008.04.14 |
| 申请人 |
东京应化工业股份有限公司 日本 |
发明人 |
川上晃也;内海义之;濑尾健仁;羽田英夫;远藤浩太朗;川名大助;吉井靖博;黑泽刚志 |
| 分类号 |
C07C309/10;C07C381/12;G03F7/004;G03F7/039;H01L21/027 |
主分类号 |
C07C309/10 |
| 代理机构 |
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代理人 |
林志刚 台北市中山区南京东路2段125号7楼 |
| 主权项 |
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| 地址 |
日本 |
