发明名称 基板清洗方法及基板清洗装置
摘要 本发明提供一种可提高清洗效率而又不会对基板造成损伤之基板清洗方法及基板清洗装置。一边向清洗喷嘴60之筒状体61之内部供给清洗液一边关闭阀76,并藉由压电元件62对清洗液赋予振动,藉此自复数个吐出孔64生成清洗液之液滴并吐出。所吐出之液滴之液滴直径为15 μm以上且200 μm以下,且其分布以3σ计为平均液滴直径之10%以下。又,液滴速度为20米/秒以上且100米/秒以下,且其分布以3σ计为平均液滴速度之10%以下。进而,液滴流量为10毫升/分钟以上。若一边满足该等吐出条件一边自清洗喷嘴60将清洗液之液滴向基板吐出,则可提高清洗效率而又不会对基板造成损伤。
申请公布号 TWI395261 申请公布日期 2013.05.01
申请号 TW099105338 申请日期 2010.02.24
申请人 大日本网屏制造股份有限公司 日本 发明人 田中孝佳;宗德皓太;山口久美子;佐藤雅伸
分类号 H01L21/30 主分类号 H01L21/30
代理机构 代理人 陈长文 台北市松山区敦化北路201号7楼
主权项
地址 日本