步进排列式干涉微影方法与系统

摘要

本发明提供一种步进排列式干涉微影方法，其主要是在干涉微影前先对干涉光束相较于移动承载偏移误差进行量测，以减低后来利用步进式曝光拼接奈米微结构图案时相邻之图案间的位移偏差。此外，本发明更提供一步进排列式干涉微影系统，于步进控制移动的过程中补偿干涉光束曝光时所造成之误差，达成在二维平面上大面积之步进式的精密对位，并且透过多次曝光将微结构精确接合，以产生出大面积的周期性结构。