| 发明名称 |
清洁片材，具有清洁功能之搬送构件及基板处理设备之清洁方法 |
| 摘要 |
一种清洁片材，包含一清洁层以及一可离型保护膜层合于该清洁层上，其中当保护膜由清洁层撕离时，于清洁层之CH3Si+、C3H9Si+、C5H15Si2O+、C5H15Si3O3+、C7H21Si3O2+、CH3SiO-、CH3SiO2-及Si+之离子碎片之相对强度，根据飞行时间式二次离子质谱术，于阳离子之例相对于C2H3+、或于阴离子之例相对于O-之相对强度个别为0.1或0.1以下。 |
| 申请公布号 |
TWI395264 |
申请公布日期 |
2013.05.01 |
| 申请号 |
TW093110348 |
申请日期 |
2004.04.14 |
| 申请人 |
日东电工股份有限公司 日本 |
发明人 |
寺田好夫;并河亮;宇圆田大介;船津麻美 |
| 分类号 |
H01L21/304 |
主分类号 |
H01L21/304 |
| 代理机构 |
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代理人 |
赖经臣 台北市松山区南京东路3段346号11楼;宿希成 台北市松山区南京东路3段346号11楼 |
| 主权项 |
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| 地址 |
日本 |
