发明名称 金属薄膜之物理气相沉积方法
摘要 一种金属薄膜之物理气相沉积方法,可用以制备钛、铝与钛铝合金之金属薄膜,其步骤包含有:于一密闭腔体内置入一基材,以及一由钛、铝或钛铝合金所制成之靶材,在该密闭腔体内抽真空达6.6×10-4~1.3Pa之背景压力后,将空气与氩气以流量比6/100以下进行混合后的混合气体通入该密闭腔体,在工作压力1.3×10-2Pa~1.3Pa下,施加电压于该基材与该靶材,即可于该基材之表面沉积形成金属薄膜。由于本发明采用随处可得的空气,且背景压力要求不高,具有设备简单、制程快速、成本低廉等优点。
申请公布号 TWI394855 申请公布日期 2013.05.01
申请号 TW098140677 申请日期 2009.11.27
申请人 国立中兴大学 台中市南区国光路250号 发明人 吕福兴;李念庭;范慧屏;姚力仁;詹慕萱
分类号 C23C14/34;C23C14/14 主分类号 C23C14/34
代理机构 代理人 刘绪伦 台中市南屯区永春东一路549号3楼
主权项
地址 台中市南区国光路250号