| 摘要 |
本发明的目的系获得一种粒子线照射装置，排除扫掠电磁铁的磁滞的影响，并实现高精度的射束照射。;其具备：扫掠电磁铁3，扫掠藉由加速器52所加速的荷电粒子射束，并具有磁滞；扫掠电源4，系输出驱动扫掠电磁铁3的励磁电流；磁场感测器20，系测定藉由励磁电流驱动的扫掠电磁铁3的磁场；以及照射控制装置5，系依据藉由磁场感测器20所测定的测定磁场Bs及荷电粒子射束1b的目标照射位置Pi控制扫掠电源4。照射控制装置5系具有：逆映像手段22，系从荷电粒子射束1b的目标照射位置座标Pi运算目标磁场Bi；及控制器，生成给使目标磁场Bi与测定磁场Bs的磁场误差Be为预定的临限值以下的扫掠电源4的励磁电流的指令值Io，并将指令值Io输出至扫掠电源4。 |
