闪耀角可调微机械光栅的制作方法

摘要

本发明公开了两种基于体硅干法刻蚀技术的闪耀角可调微机械光栅的制作方法，主要涉及微机电系统（MEMS）技术、微加工技术以及光栅衍射技术等。该方法包括刻蚀浅槽、淀积金属薄膜并刻蚀形成下电极、刻蚀出扭转支点和锚点、键合、减薄、刻蚀得到光栅反射梁等过程。该方法能够将光学工作面的表面粗糙度控制在纳米级，可极大提高器件的光学效率；同时，具有比表面工艺大的多、且工艺可调的空气间隙，能大幅度提高器件的最大可工作闪耀角。本发明将促进闪耀角可调微机械光栅在实际系统中的应用。

主权项

闪耀角可调微机械光栅的制作方法，其特征在于，包括如下步骤：步骤1：在基底（1）上刻蚀出浅槽（10）；步骤2：在基底（1）的浅槽（10）一侧淀积一层金属薄膜，并刻蚀出图形，形成下电极（2）；步骤3：在导电的光栅结构材料（11）的一侧刻蚀出扭转支点（3），以及锚点（12）；步骤4：将由步骤2和步骤3得到的结构通过锚点（12）键合在一起；步骤5：将光栅结构材料（11）减薄至所需厚度；步骤6：对光栅结构材料（11）进行刻蚀，得到光栅反射梁（4），它通过支撑梁（16）与锚点（12）相连。